Siloxane: Industrie kritisiert Beschränkungsplan der ECHA

Der ECHA-Vorschlag, die Siloxane D4, D5 und D6 unter REACH weiter zu beschränken, alarmiert die Industrie. Die europäische Organisation der Silikon-Hersteller (Centre Européen des Silicones, CES) sorgt sich um die Hersteller von Silikonpolymeren und befürchtet negative Auswirkungen auf den Kohlendioxidausstoß.  

Die Siloxane D4, D5 und D6 sind bereits als besonders besorgniserregende Stoffe (SVHC) eingestuft. Beispielsweise dürfen deshalb gemäß der seit Januar 2018 gültigen REACH-Verordnung (EU) 2018/35 abwaschbare kosmetische Mittel nach dem 31. Januar 2020 nicht mehr in Verkehr gebracht werden, wenn sie die beiden Siloxane D4 und D5 in einer Konzentration von 0,1 Gewichtsprozent oder höher enthalten.  

Diese Konzentrationsgrenze soll laut den aktuellen Plänen der ECHA demnächst auch für andere Mischungen gelten, etwa für Leave-On-Kosmetika oder für die Verwendung von D5 in chemischen Reinigungsmitteln. Besonders die Verwendung in Kosmetika sehen die Vertreter der ECHA als kritisch, da jedes Jahr rund 18.000 Tonnen D4, D5 und D6 in die Umwelt gelangen; das meiste davon stamme, so die Autoren, von Kosmetika. 

CES-Vertreter halten mit ihren Argumenten dagegen. Sie sind gegen eine pauschale Konzentrationsobergrenze, weil die betreffenden Siloxane auch als Verunreinigungen in Silicon-Polymeren enthalten sind, einem wichtigen Rohstoff für die Herstellung von Dämmmaterialien und Medizinprodukten. Eine Beschränkung würde also nicht nur die Hersteller von Silikonpolymeren treffen. Sondern sie würde vor allem auch, so die CES-Vertreter ihrem Statement vom 1. Februar, die hohen Sicherheits- und Nachhaltigkeitsstandards etwa beim Bauen gefährden.  

Die Autoren des ECHA-Dossiers wollen nun im Zuge der öffentlichen Konsultation, die im März beginnt, mehr Informationen auswerten, um die tatsächliche Situation bei Polymeren besser beurteilen zu können.  

Haben Sie Fragen bezüglich der rechtlichen Compliance Ihrer Produkte? Gerne sind wir unter reach@kft.de für Sie da. 

 

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